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NIR-MX系列
工业红外显微系统
舜宇自研的NIR-MX系列工业红外显微系统利用红外光的穿透性,进行非破坏性芯片检测,适用于光通讯、先进封装及晶圆制造。该系统采用更长波长的红外光,增强了穿透硅的能力,提供了清晰成像,是国内领先的近红外检测设备,为工业检测提供了强有力的支持。
为用户提供高效的工业检测解决方案
对封装芯片及晶圆内部进行实时成像与观测
红外波段(900-1700nm)光谱范围宽,低散射和强穿透性
采用宽场照明与面阵探测,实现宽光谱、大视野、高分辨成像
大数值孔径物镜消除像差,实现精准红外检测
专用红外物镜超宽兴谱成像更清晰
□ 配备了5X-50X专业红外物镜,提供了从可见光到近红外波长的像差校正,适用于常规明场及专用红外的观察。 □ 对于高倍数值孔径较大的物镜,增加了校正环,可校正由覆盖片厚度不同引起的像差,实现近红外波段的高清晰精准检测。
130万与320万相机的成像图对比
宽光谱专用红外相机
采用宽光谱专用红外相机,涵盖明场和红外观察,整机宽场照明,成像视野广,分辨率高。搭配带通式滤色片进行面阵探测,可实现对硅片内部芯片不同部分的响应,以满足不同客户的需求。
图像增透前VS 图像增透后
自主研发软件,操作功能强大
采用Mvimage专用图像软件,在常规图像管理、测量、图像采集、图层管理等功能模块上,增加了红外特有的图像增强功能,还可以根据客户的需求定制开发自动检测功能。